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      潔凈室的溫度和濕度控制問題

      admin 2019-11-05 12:40 閱讀

      潔凈室的溫濕度控制。潔凈實驗室高效安全的手術室空氣凈化系統,保證手術室的無菌環境,可以滿足器官移植、心臟、血管、人工關節置換等手術所需的高度無菌環境。采用高效低毒消毒劑,以及合理使用,是保障一般手術室無菌環境的有力措施。實驗室凈化確保手術臺潔凈度達標,一般多采用垂直層流式效果較好 層流手術室是一個"正壓"環境,其空氣壓力根據其不同區域(如手術間、無菌準備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區域等)潔凈度不同要求而不同。潔凈空間的溫度和濕度主要根據工藝要求確定,但在滿足工藝要求的條件下,應考慮人們的舒適性。隨著空氣潔凈度要求的提高,對溫濕度的要求也越來越嚴格。

      具體工藝的溫度要求將在后面列出,但作為一般原則,由于加工精度越來越精細,對溫度波動范圍的要求越來越小。例如,在大型集成電路產生的光刻曝光過程中,對玻璃和硅片作為掩模板材料的熱膨脹系數的要求越來越小。直徑100um的硅芯片,溫度增加1度,造成0.24um線性膨脹,因此必須有0.1度的恒定溫度,同時需要一般低的濕度值,因為出汗后,產品會受到污染,尤其是害怕鈉的半導體工場。這種車間不得超過25度。

      高濕度的問題更多。當相對濕度超過55%時,如果發生在精密裝置或電路中,冷卻水壁上的凝結會引起各種事故。相對濕度在50%時容易生銹。此外,當濕度過高時,硅片表面化學吸附的灰塵通過空氣中的水分子很難去除。相對濕度越高,去除膠粘劑的難度越大,但當相對濕度小于30%時,由于靜電的作用,顆粒很容易吸附在表面,大量的半導體器件容易分解。硅片生產的最佳溫度范圍為3545%。

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